因为顶帽运算与底帽运算都是提取比结构元素小的局部区域,因此对于一些暗背景的、目标尺寸又比较小的目标检测场景,可以通过顶帽操作,使用比较大的结构元素来提取目标。底帽运算与
顶帽运算常用于提取图中较亮的小区域,但也适用于大面积的背景的提取。
对于一些背景光照不均匀的情况,如果背景比较大,检测物体比较小,可以使用大的结构元素进行顶帽或者底帽操作,以提取物体背景,并将背景光照变得均匀。图(a)所示为原始的灰度图像,图(b)为经底帽运算得到的较暗的目标区域,图(c)将底帽运算的结果从原图中提取出来,去除了光照不均匀的背景。
图中的底帽运算处理代码如下:
*读取一幅光照不均匀的亮背景图像,这里选取的是一幅彩色图像
read_image (Image,'data/shapes')
*变换之前转为灰度图像
rgbl_to_gray (Image, GrayImage)
*将图像通过阈值处理转化为二值化图像
threshold (GrayImage, Regions, 145, 255)
*创建一个结构元素,这里创建的是一个圆形
gen_circle(StructElement,10,10,100)
*清空窗口便于显示结果
dev_clear_window ()
*进行底帽操作,提取出较暗区域
bottom_hat (Regions, StructElement, RegionBottomHat)
*将较暗区域从原图中提取出来
reduce_domain (Image, RegionBottomHat, ImageReduced)
dev_clear_window ()
dev_display (ImageReduced)
在对图像进行阈值处理时需注意,由于使用底帽运算提取的是比较暗的区域,因此这里二值化操作选取的是比较亮的背景区域。圆形结构元素的坐标不受影响,但其半径应根据暗的前景目标进行推算,使其直径至少要能够覆盖待检测的较暗目标。
通过底帽运算将较暗区域从原图中提取出来以后,可以看到不均匀的背景已被去除。
总体来说,顶帽运算适合在较暗的背景下提取比较小且比较亮的前景目标,而底帽运算则相反,
适合在较亮的背景上提取出较暗的目标。两种方法提取的目标都需要小于结构元素的尺寸。