本次系列文章主要分享与存储相关的知识
阈值电压(Vt)
?阈值电压(Vt或Vth)的概念是从MOS管来的。
先从MOS管的阈值电压谈起。MOS管(MOSFET)是由Gate (栅极),Source (源极),Drain (漏极)和Body (衬底)构成的四端器件(注1)。其功能取决于沟道中载流子(空穴和电子)的流动。根据起主要作用的载流子的种类,可分为PMOS (正电荷的空穴为主)和NMOS (负电荷的电子为主)。闪存可以看成在NMOS基础上增加了一个浮栅(没有直接外接),所以本文以NMOS为例展开,其截面图为,
NMOS每个端子都需要一个偏置电压才可以正常工作,由栅极电压控制源极和漏极之间电流的通路,就像是一个可调节的水龙头可以精确控制水流的大小。在这里我们把,
一般NMOS的衬底和源极接低电平,例如约定Vs=GND,则它的阈值电压就可定义为:
漏极电压(Vd)一定时,改变栅极电压(Vg),并测量漏极电流(Id)。当漏极电流(Id)等于事先约定的阈值电流(Ithreshold,简称It)时,此时的栅极电压就是阈值电压(Vthreshold,简称Vt)
逐条分析这句话,
? ? ? 一个更为通俗的例子,就是在洗澡的时候通过拧水龙头调节冷热水比例,当调节到最舒适的水温的时候,大家往往会把这个龙头的位置定好,那么我们固定的这个水龙头位置(Vg)就是阈值电压(Vt),这个时候出水的流速和温度,就是阈值电流(It)。
MOS管可分耗尽型和增强型;漏端电流也有Idoff、Idsat等定义,许多MOS管相关的概念,我们这里就不多赘述了。
上述Vg与Id的关系,我们也可以用一个函数y = f(x)来类比,所谓Vt,就是要寻找一个x0,使得f(x0)等于某个约定的y0,此时的x0就是Vt。
在直角坐标系里把这个函数画出来,差不多就是,
X轴是Vg,Y轴是Id,当Id=It时,Vg-Id曲线对应的Vg就是Vt。上面是MOS管的阈值电压,而闪存的阈值电压基本也是一样的定义。唯一不同的点是,闪存的Vt并不固定,通过控制闪存单元存储电荷,我们可以实现对闪存Vt的调节,这种调节也恰恰是闪存能够编程或者擦除的基础。
? ?闪存按电荷的控制,目前分两大阵营,浮栅(floating gate)和电荷捕获(Charge Trap),我们现在所用的3D NAND,大部分都是用电荷捕获结构实现的,这个细节可以以后再说。本文仅以浮栅技术为例(比较好画图),其单元截面图可以画成:
浮栅层的材料是可导电的多晶硅,电势较低,可以储存电子。如果浮栅中电子较多,相当于对栅极电压(Vg)做了一定的屏蔽,那么栅极电压需要首先抵消浮栅的屏蔽,然后才能获得漏极电流。相应的Vg-Id曲线就会向右平移,阈值电压就增加了,反之,当我们减少浮栅中的电子,甚至抽取过量电子以形成空穴,则可以让Vg-Id曲线向左平移,相应的阈值电压就会降低,
作为集成电路基础的MOS器件,其特性,尤其是Vt,对数字电路和模拟电路都非常重要。只是数字电路,从功能设计上可以相对简单的设置极端Vg值,让Vg远大于Vt或者Vg远小于Vt,来输出逻辑1和0。而对闪存来说,我们可以精确控制Vt以实现SLC,MLC,TLC等等,具体内容等介绍完Vt概念以后再展开。
以SLC为例,我们通常定义Vt低时为擦除态,Vt高时为编程态。能够区分存储单元晶体管的Vt高低,就能够知道单元中被存储的数据。相应的,稳定的Vt才能够保证稳定的数据存储。那么怎么才能够区分存储单元中的Vt的高低状态呢?我们就需要引入Vt分布的概念,这个会在我们这个系列的下一篇文章中介绍。
在一些特殊应用里,MOS管会有更多需要考虑电压及电流的节点,如果后面有碰到,再做介绍。(2)约定不变,不代表不可以改变。在一些情况下,我们也可以改变Vd和It的来改变Vt,