是一种完全纯净的,结构完整的半导体晶体。也就是只有硅元素
自由电子在晶体中的运动,这种现象称为本征激发。
空穴和自由电子均属于载流子
空穴:自由电子离开了它原来的位置,留下的位置就是空穴
空穴可以在电场力的作用下进行依次填补,形成相对运动,空穴和自由电子一样也是载流子,本征激发越多,导电能力越好。
复合:当自由电子晶体中运动的过程中,恰好遇到了空穴,重新形成了共价键的价电子,那么自由电子和空穴结合的过程就叫做复合。本征激发的速度和温度决定了载流子的浓度。
参杂了其他物质的半导体:如N型半导体/和P型半导体
典型的施主原子有五价原子磷、砷和锑,当一个施主原子磷加入硅半导体时后,其多余的电子易受热激发而成为自由电子。自由电子参与传导电流,它移动后,在施主原子的位置上留下一个固定的、不能移动的正离子,但半导体仍是电中性的。
由于多子是少子的几百万倍,也就是自由电子带负电,所以是N型半导体。
此时:温度对N型半导体的影响不大,因为本身的自由电子就已经很多很多,因此受温度影响产生的自由电子对于本身自由电子的数量而言不多。
但是对于少子,影响就比较大了,因为本身少子的基数就比较少。
总结一下:温度对多子的影响小,对少子的影响大。
:带正电,化学价正3价,与硅元素结合还剩一个空穴,因此加入的硼元素越多,空穴越多。
多子:空穴占大多数,带的是正电。
少子:自由电子(负电)
将两种半导体放在一块,就产生了PN结
红色圈表示:正离子
蓝色圈表示:负离子
绿色点:自由电子
红色点:空穴
扩散运动:从图中可以看出:由于N区的自由电子多,P区的空穴多,因此原子都会从浓度高向浓度低的地方扩散。而N自由电子(多子)就会和P区的空穴结合,因此两个交界处会形成一个空间电荷区。可以成为耗尽层,阻挡层,也成为PN结。
作用:阻止(多子)自由电子扩散到P区。但是也会有很少的自由电子冲破阻挡层。
空间电荷区:耗尽层、阻挡层、PN结。
漂移运动:虽然多子的扩散运动会被空间电荷区阻挡,但是当N区的少子(空穴)扩散到阻挡层,会瞬间(电场力的作用下)被拉到P区,P区的少子(自由电子)也是同理。少子在空间电场力的作用下的运动称为漂移运动。
多子的扩散运动和少子的漂移运动会达到动态平衡。
对称结与不对称结:在进行扩散运动之前,N区和P区的浓度相同得到时候,最终形成的空间电荷区两边的宽度是一样的,就是对称结,当N区和P区两边的浓度不一样的时候,浓度高得那边PN结窄,浓度低得那边PN结宽
因此PN结会因为P区和N区 浓度的不同呈现不同的宽度。
P区接正极,N区接负极。因此会形成从左到右的外电称。
原先空间电荷区的内电场是从右往左,那么这个电场力会削弱内电场的作用。
使得扩散运动加剧,电流指数性质迅速增,可以正向导电。加上一个电阻进行限流,最大电流等于U/R,防止PN结被烧坏。(电流从P到N)
当加入的是反向电压时,结合正向电压的理解,会发现空间电荷区的电场作用更强了,扩散运动更难进行,所以电流很小,已经不导电了,但是空间电荷区的电场的增大,会使得漂移运动加剧,产生微小电流,但最终还是忽略不计。
室温:ut = 26mv 锗管/硅管U不同